一.概述

 金属薄膜的真空蒸发(vacuum evaluation of metal film)是在高真空(10-4 mba以上)下，通过电阻、高频或电子束加热熔融蒸发金属，并附着在薄膜衬底表面，形成复合薄膜的过程。电镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等。，其中铝是最常用的。在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝，就成为镀铝薄膜或纸张。

 包装用真空镀铝薄膜具有以下特点:

 (1)与铝箔相比，大大降低了铝的消耗，节约了能源和材料，降低了成本。复合铝箔的厚度大多为7-9 μm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为400A(0.04 μm)，其铝消耗量约为铝箔的1/200，生产速度可达700 m/min。

 (2)具有优异的耐折性和良好的韧性，针孔和裂纹少，无扭曲和开裂现象，改善了对气体、水蒸气、气味、光等的阻隔性。

 (3)具有优异的金属光泽，光反射率可达97%；并且可以通过涂层处理形成彩膜，装饰效果小于铝箔。

 (4)部分镀铝可以通过屏蔽或洗脱进行，以获得任何图案或透明窗口来观察包装的内容物。

 (5)镀铝层具有良好的导电性，可以消除静电效应。尤其是包装粉状产品时，不会污染密封部件，保证包装的密封性能。

 (6)对印刷、复合等后处理具有良好的适应性。

 由于上述特点，镀铝薄膜已成为一种性能优异、经济美观的新型复合膜，并在许多方面取代了铝箔复合材料。主要用于包装风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品和香烟。

 二、真空蒸发的原理

 将待镀辊状薄膜基片安装在真空蒸发机的退绕工位上，通过冷却辊(蒸发辊)将薄膜卷绕在卷绕工位上，用真空泵抽真空，使蒸发室内的真空度达到4×10-4 MBA以上，加热蒸发舟，使高纯铝线在1300-1400℃熔化蒸发成气态铝..启动薄膜卷绕系统。当薄膜运行速度达到一定值时，打开挡板，将气态铝颗粒沉积并冷却在移动薄膜衬底表面，形成连续光亮的金属铝层。真空镀铝的示意图如图1所示。镀铝层的厚度通过控制金属铝的蒸发速度、衬底膜的移动速度、蒸发室内的真空度等来控制。通常，镀铝层的厚度为250至500。

 三.涂层基材

 由于真空蒸发工艺的特殊性，对镀膜基板有以下要求:

 1、耐热性好，基板必须能够承受蒸发源的辐射热和蒸发的冷凝潜热。

 2.从薄膜基底产生较少挥发性物质；对于吸湿性高的基材，应在蒸发前干燥。

 3.基材应具有一定的强度。

 4.对蒸发涂层有良好的附着力；对于聚丙烯和聚乙烯等非极性材料，应在蒸发前进行表面处理，以提高涂层的附着力。

 常用的镀铝基材包括:双向拉伸聚酯、BOPA、BOPP、氯化聚乙烯、聚乙烯、聚氯乙烯等塑料薄膜和纸。BOPET、BOPA和BOPP在塑料薄膜基材上生产的镀铝薄膜具有优异的光泽和附着力，是一种性能优异的镀铝薄膜，广泛用作包装材料和烫金材料。镀铝聚乙烯薄膜光泽度差，但成本低，用途广泛。纸基镀铝纸比铝箔/纸复合材料更薄、更便宜。其加工性能好，印刷时不易卷曲、无折痕等。主要用作香烟、食品等的内包装材料。和商标材料等。